來自nikonrumors的最新消息，1月23日尼康與卡爾·蔡司、ASML就光刻機技術(shù)侵權(quán)問題簽署諒解備忘錄，卡爾·蔡司、ASML兩家公司同意向尼康支付1.5億歐元賠償款。該諒解備忘錄是一項具有約束力的協(xié)議，其中涉及尼康與卡爾·蔡司、ASML在歐洲、日本以及美國市場所有未解決的爭議。預(yù)計這三家公司將于2019年2月開始執(zhí)行該和解協(xié)議，與此同時法院也駁回了雙方之間的法律訴訟。除了卡爾·蔡司、ASML兩家公司將向尼康支付1.5億歐元賠償款之外，自最終協(xié)議簽署之日起10年時間內(nèi)，這兩家公司還將向尼康支付銷售額0.8％的浸沒式光刻系統(tǒng)專利特許使用費。

背景：2017年4月，尼康公司宣布正式對荷蘭的ASML公司和德國蔡司公司啟動法律程序，控告兩家公司在未經(jīng)尼康公司授權(quán)及許可的情況下使用尼康的光刻機技術(shù)。兩家公司中，前者為目前半導(dǎo)體光刻機領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)品牌之一，后者則是ASML的光學(xué)供應(yīng)商及世界著名的光學(xué)企業(yè)。